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      勻膠旋涂儀 型號:WS-650Mz-23NPPB

      勻膠旋涂儀 型號:WS-650Mz-23NPPB

      簡要描述:
      勻膠旋涂儀 型號:WS-650Mz-23NPPB

      四.設備運行條件
      .設備外圍條件要求
      1. 環境要求
      a) 無塵室 1000 級或者以上
      b) 溫濕度 溫度:22±3°C°C
      濕度:45 ~ 70%

      產品時間:2024-09-26

      訪問量:1655

      廠商性質:生產廠家

      生產地址:

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      勻膠旋涂儀 型號:WS-650Mz-23NPPB

      一、設備用途和特點:
      1、用途:用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。設備能滿足各類以下尺寸的基片處理要求,并配制相應的托盤夾具。驗收除按賣方提供的標準基片外,另外可根據買方要求的 10mm 的碎片和 4 英寸的晶圓片等驗收試驗要求。
      2、特點:
      (1)外觀整潔,占地面積小
      (2)材質易于清洗和維護,用戶操作、使用、維修方便;
      (3)采用系統結構方式,確保設備工作的性;

      二、 設備配置明細
      1.勻膠機主機 WS-650Mz-23NPPB
      勻膠機主機
      2.真空泵 Vacuum Pump Rock300
      配套真空泵浦 Rock300
      3.真空托盤 Spinner Chuck 50~150mm
      勻膠托盤 50~150mm
      4.真空托盤 Spinner Adapter 10~50mm
      勻膠轉接托盤 10~50mm
      5.系統附件 含密封圈若干、標準樣片、水平儀、連接管
      6.操作軟件 Spin 3000 Software
      Spin 3000 操作軟件
      7.安裝文檔 Installation Documents
      安裝文檔
      三. 設備技術資料
      1. 系統概述
      1.1嵌鎖,系統蓋板具有嵌鎖裝置,確保操作安丨全;
      1.2防腐裝置;
      1.3*設有保護氣體裝置:旋涂過程中對旋轉馬達進行丨氣流保護;
      1.4通信接口,藍牙連接
      2. 處理腔體
      2.1處理腔體內徑不小于 9.5 英寸 (241 毫米);
      2.2* Wafer 芯片尺寸滿足10*150mm 直徑的材料,方片125x125mm,
      無需換片托;
      2.3腔體具有易清潔的 NPP 聚丙烯材質;
      3. 旋轉馬達
      3.1轉動速度至少滿足 12,000rpm,
      3.2旋涂加速度不小于 12,000rpm/sec;
      3.3馬達旋涂轉速穩定性能誤差不過±1%;4. 控制系統
      4.1工藝時間設定范圍至少滿足 5999.9 sec/step ,精度不過 0.1s
      4.2配有高精度 PLC 可編程的控制器,設置點精度小于 0.006%;
      4.3可存儲不少于 20 個程序段,每個程序段可設置不少于 51 個不同步驟的速度狀態;
      4.4*分辨率要小于 0.5RPM,重復性誤差要小于±0.5RPM,無需再校準;

      5. 配套泵浦
      5.1配套真空泵系統:無油型 220~240 伏交流,50/60 赫茲;
      5.2真空吸附范圍 25*28 英寸汞柱 (~635~711 毫米汞柱)可調節,抽速不小于 4.5 SCFM (0.11 立方米/分鐘) ;

      6. 系統附件
      6.1*贈送基于 Windows 的操作軟件;
      6.2原-裝進-口水平測試儀;
      6.3兩袋密封圈;
      *配有兩套可換的廢液接收單元;

      勻膠旋涂儀 型號:WS-650Mz-23NPPB

      四.設備運行條件
      .設備外圍條件要求
      1. 環境要求
      a) 無塵室 1000 級或者以上
      b) 溫濕度 溫度:22±3°C°C
      濕度:45 ~ 70%
      c) 安裝維護距離 與其他設備或者墻面距離≥30cm
      d) 設備尺寸以及重量 長寬高:420mm x 380 mm x 290mm
      重量:15kg
      2.電力要求 220 V±10%, 16 A, 50 Hz
      3.動力要求
      a) 真空 25~28 Inches Hg
      b) 氮氣 60-70 PSI
      c) 干燥空氣 60-70 PSI

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